第149章 没有超纯水，咱也照样盘他[2/2页]

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    isp芯片来，果然是大牛。

    “江总，我服您了！”林峰抬着大拇指，称赞道。

    江成只感觉一阵怪味冲了上来，“去去去，别凑这么近，给你们放个假，都给我去搓个操，剪个发，还有胡子，都得刮了！”

    林峰嘿嘿一笑，“那行，我先回去洗个澡，晚上再来修改完后，后面还有很多事情要做呢！”

    “晚上不用来。后面我会参与，咱们争取早些把soc芯片设计出来。”江成点点头。

    内核设计出来了，后面就是按照设计把整个处理器架构整好，把这些编译器的hdl程序导入eda设计工具中，转换成为逻辑电路。

    最后，各个单元合成完的程式码再放入另一套eda工具，进行电路布局与绕线。

    这个就是芯片制造的施工图纸。

    光刻机将会按照这些图纸，对晶圆进行施工。

    而在整个逻辑电路方面，江成体内的模拟实验器，可以起到关键作用。

    唯独有些可惜的是，体内模拟的光刻机只是一个45nm制程的，无法对手机soc芯片进行模拟光刻。

    这款soc芯片，对标的是刚发布不久的宵龙800，采用的28nm的制程工艺。

    要做就做到前列，这是江成的要求和目标。

    不过，也不用担心，目前江成打算研究下浸没技术。

    从华芯国际生产车间中偷偷摸出来的光刻机，是193nmarf光源的干式光刻机，生产的半导体工艺节点最多可以达到

    但阿斯麦尔采用的浸没式技术，和激进的可制造性设计（dfm）等技术后，可以将工艺制程迈进22nm以内，甚至通过多重曝光等技术，可以达7nm的工艺！

    7nm，那已经相当于江成前世用的麒麟980、985的技术。

    至于技术，其实也并不复杂。

    通过在原有的193nm光刻机系统当中增加浸没单元，利用超纯水替换透镜和晶圆表面之间的空气间隙。

    因为超纯水在193nm波长时的与空气的折射率故而让光源进入后波长缩短，从而提升光刻分辨率。

    不过超纯水这些东西，江成并不确定自己能否模拟出来。

    体内电脑模拟的出来的，主要是电子设备或是能够运行电子的材料。

    其他塑料、非金属材料，更多是模了一个样子，并没有实际用处。

    江成尝试了一下，将手指伸到自来水处。

    释放生物电流。

    然而，没有任何反应。

    江成估计超纯水这样的液体，也无法进行模拟。

    但江成却又有了想法。

    超纯水咱搞不了，但在体内电脑里头，咱们的权限是超级大的啊！

    这可不像是在外界的实体设备，无法轻易调整。

    江成可以自由调整和修改各类材料、各类电路。

    甚至光刻机的光源激发设备，江成也觉得可以尝试一下调整调整嘛。

    谁让你模拟进来实验室了呢？

    在这实验室里头，所有的东西都是模拟出来的，一切由江成做主。

    不就是要降波长嘛，就是没有超纯水，咱也照样盘他！

第149章 没有超纯水，咱也照样盘他[2/2页]

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